Принцип полімеризації покриттів УФ-променями впливає на полімеризацію глибокого світла UVLED

Принцип затвердіння УФ-покриттів: УФ-покриття спричинені світлом, спричиненим УФ-світлодіодами, створюючи скульптурні групи або іони. Ген Body, ці гени мономерів починають ланцюгові реакції з утворенням полімерних твердих речовин, закінчується повний процес твердіння. Поговоримо про кілька факторів, що впливають на їх глибоке застигання. I. Глибоке затвердіння UVLED енергетичним впливом ультрафіолетового випромінювання. Основною умовою є те, що молекулярне поглинання кванта світла з достатньою енергією стає стимулюючим молекулами, розпадається на вільні радикали або іони, і дозволяє насиченим органічним об’єктам агрегувати, делегувати, зшивати та інші хімічні реакції, щоб досягти мети затвердіння. Серед них УФ-світлодіодна енергія світла, спричинена світлом, спричиненим наданими УФ-покриттями, перевищує або менше, ніж вплив необхідної енергії: 1. Я не знаю, що енергія УФ-світлодіодного джерела холодного світла, необхідна для світла, спричиненого причиною світла, такою як сліпе живлення, є не лише марною тратою енергії, але й енергії, але також призведе до негативних наслідків надмірного затвердіння, наприклад як скупчення вибуху, рефлюксні реакції тощо. 2. Коли UVLED недостатньо, він не може повністю затвердіти. По-друге, товщина УФ-покриття впливає на вплив УФ-покриття на ефект ультрафіолетового затвердіння. Покриття занадто товсте, а час висихання відносно тривалий під впливом джерела світла однакової потужності. З одного боку, це впливає на висихання УФ-покриттів. Крім того, з одного боку, температура поверхні підкладки буде занадто високою, що призведе до деформації підкладки; занадто тонке покриття призведе до блиску поверхні виробу. Крім того, відтінок, температура, швидкість затвердіння та поверхня підкладки покриттів УФ-покриттям повинні бути відповідним чином підготовлені за різних умов, таких як різні умови, наприклад. По-третє, ефект відстані затвердіння. УФ-лампа Залежно від різниці в твердих субстратах, загальна відстань становить приблизно 10-15 мм. Відстань затвердіння має відповідним чином регулюватися з радикальною силою основи, покриття та УФ-світла. По-четверте, вплив УФ оптичної швидкості затвердіння. Залежно від основи, покриття, покриття, відстані затвердіння тощо, належним чином відрегулюйте швидкість затвердіння пристрою, фіксована швидкість занадто висока, УФ-фарба на поверхні підкладки липка або поверхня не суха; Поверхня матеріалу буде старіти. По-п'яте, вплив робочого середовища. Коли в’язкість УФ-покриттів сильно змінюється через температуру, кімнатну температуру слід відрегулювати. Як правило, 15-25 C є більш прийнятним, і не обов'язково бути прямим під час затвердіння.