Прынцып цвярдзення УФ-пакрыццяў уплывае на глыбокую цвёрдасць UVLED

Прынцып зацвярдзення УФ-пакрыццяў: УФ-пакрыцці ўзнікаюць пад дзеяннем святла, выкліканага ультрафіялетавымі святлодыёдамі, ствараючы скульптурныя групы або іёны. Ген Body, гэтыя гены манамераў пачынаюць ланцуговыя рэакцыі з утварэннем цвёрдых палімераў, поўны працэс зацвярдзення заканчваецца. Пагаворым аб некалькіх фактарах, якія ўплываюць на іх глыбокае застыванне. I. Глыбокае отверждение UVLED энергетычнага ўздзеяння ультрафіялетавага выпраменьвання. Асноўная ўмова заключаецца ў тым, што малекулярнае паглынанне кванта святла з дастатковай энергіяй становіцца стымулюючым малекулам, распадаецца на свабодныя радыкалы або іёны і дазваляе насычаным арганічным аб'ектам агрэгаваць, дэлегаваць, сшываць і іншыя хімічныя рэакцыі, каб дасягнуць мэты зацвярдзення. Сярод іх энергія UVLED святла, выкліканага святлом, выкліканым прадастаўленымі УФ-пакрыццямі, перавышае або менш, чым уздзеянне неабходнай энергіі: 1. Я не ведаю, што энергія халоднай крыніцы святла UVLED, неабходная святлу, выкліканаму прычынай святла, напрыклад, сляпой падачай, з'яўляецца не толькі пустым марнаваннем энергіі, але і самой энергіі, але таксама выкліча негатыўныя наступствы празмернага зацвярдзення, такія як як збор выбуху, рэфлюксныя рэакцыі і інш. 2. Калі UVLED недастаткова, ён не можа быць цалкам застылы. Па-другое, таўшчыня УФ-пакрыцця ўплывае на эфект ультрафіялетавага отвержденія. Пакрыццё занадта тоўстае, і час высыхання адносна доўгі пры апраменьванні крыніцы святла той жа магутнасці. З аднаго боку, гэта ўплывае на высыханне УФ-пакрыццяў. Акрамя таго, з аднаго боку, тэмпература паверхні падкладкі будзе занадта высокай, што прывядзе да дэфармацыі падкладкі; занадта тонкае пакрыццё прывядзе да бляску паверхні прадукту. Акрамя таго, адценне, тэмпература, хуткасць зацвярдзення і паверхня падкладкі УФ-пакрыццяў павінны быць адпаведным чынам падрыхтаваны ў розных умовах, напрыклад. Па-трэцяе, эфект отвержденія адлегласці. УФ-лямпа У залежнасці ад розніцы ў отверждении субстратаў, агульная адлегласць складае каля 10-15 мм. Дыстанцыя отвержденія павінна быць адпаведным чынам скарэкціравана з радыкальнай магутнасцю падкладкі, пакрыцця і ультрафіялетавага святла. Па-чацвёртае, уздзеянне УФ-аптычнай хуткасці отвержденія. У залежнасці ад падкладкі, пакрыцця, пакрыцця, адлегласці отвержденія і г.д., адпаведна адрэгулюйце хуткасць отвержденія прылады, фіксаваная хуткасць занадта высокая, УФ-фарба на паверхні падкладкі ліпкая або паверхня не сухая; Паверхню матэрыялу будзе старэць. Па-пятае, уплыў працоўнага асяроддзя. Калі глейкасць УФ-пакрыццяў моцна змяняецца з-за тэмпературы, неабходна адрэгуляваць тэмпературу ў памяшканні. Як правіла, 15-25 C з'яўляецца больш прыдатным, і гэта не абавязкова быць прамым, калі застывае.