Težave, povezane s CICS, zaviranjem kisika pri strjevanju UV lepila

Zdaj, ko izvajamo testiranje lepila za stranke, bomo naleteli na uporabo naprav UVLED za obsevanje in trdnost, zato bo nekoliko lepljivo, če se bomo z rokami dotikali površine lepila. V notranjosti lepila za rezanje in utrjevanje lahko vidimo, da je lepilo popolnoma strjeno, potem ko je lepilo prestreljeno z UVLED svetlobo. Zakaj imaš tako domišljijo? To je razširilo pomemben problem v industriji utrjevanja UVLED. UV lepilo je problem odpornosti na kisik pri utrjevanju z UVLED napravo. Zapiranje kisika je pogosta težava pri reakciji optičnega utrjevanja. V optični reakciji UVLED bodo prosti radikali, ki nastanejo zaradi razpokane svetlobe vzroka svetlobe, ujeti s kisikom in tvorijo peroksične proste radikale. Težava. Metode premagovanja blokade kisika lahko razdelimo na dve vrsti: kemične in fizikalne metode. Metoda inertnega plina, ki se uporablja v fizikalnih metodah za izolacijo kisika, je zelo učinkovita metoda. Običajno uporabljeni inertni plini so običajno dušik ali sorbe. Cena dušika in plinastega plina je relativno visoka, drugi inertni plin, ki ga je mogoče uporabiti, pa je ogljikov dioksid. Uporaba ogljikovega dioksida ima nekaj prednosti, ki jih drugi plini nimajo: Prvič, ogljikov dioksid je enostavno pridobiti in cena je nizka. Drugič, ker je ogljikov dioksid težji od zraka, ga je enostavno vzdrževati v posodi, tako da bo izgub manj.