Pitanja vezana za CICS vezana za opstrukciju kiseonika koji očvršćava UV ljepilo

Sada kada radimo testiranje ljepila za kupce, naići ćemo na korištenje UVLED uređaja za zračenje i čvrsto, a bit će malo ljepljivo dodirnuti površinu ljepila rukama. U unutrašnjosti ljepila za sečenje i očvršćavanje možemo vidjeti da je ljepilo potpuno stvrdnuto nakon što se ljepilo gađa UVLED svjetlom. Zašto imaš takvu maštu? Ovo je proširilo važan problem u industriji UVLED očvršćavanja. UV ljepilo je problem otpornosti na kisik kada se stvrdnjava UVLED uređajem. Zatvaranje kiseonikom je čest problem u reakciji optičkog očvršćavanja. U UVLED optičkoj reakciji, slobodni radikali nastali zbog napuknute svjetlosti uzroka svjetlosti će biti zarobljeni kisikom i formiraju peroksične slobodne radikale. Problem. Metode prevladavanja blokade kisika mogu se podijeliti u dvije vrste: hemijske i fizičke metode. Metoda inertnog gasa koja se koristi u fizičkim metodama za izolaciju kiseonika je veoma efikasna metoda. Uobičajeni inertni plinovi su obično dušik ili sorbe. Cijena dušika i plinovitog plina je relativno visoka, a drugi inertni plin koji se može koristiti je ugljični dioksid. Upotreba ugljičnog dioksida ima neke prednosti koje drugi plinovi nemaju: Prvo, ugljični dioksid je lako dobiti, a cijena je niska. Drugo, pošto je ugljen dioksid teži od vazduha, lako ga je održavati u posudi, tako da će biti manji gubici.