Problémy kyslíkové obstrukce vytvrzované UV lepidlem související s CICS

Když teď pro zákazníky děláme testování lepidel, setkáme se s využitím UVLED zařízení k ozařování a zpevnění a bude trochu lepkavé dotýkat se povrchu lepidla rukama. Uvnitř řezacího a vytvrzovacího lepidla můžeme vidět, že lepidlo je po vystřelení UVLED světlem zcela ztuhlé. Proč máš takovou představivost? To rozšířilo důležitý problém v průmyslu UVLED vytvrzování. UV lepidlo je problém odolnosti vůči kyslíku při vytvrzování pomocí UVLED zařízení. Kyslíkové uzavření je častým problémem při reakci optického vytvrzování. V UVLED optické reakci budou volné radikály generované prasklou světelnou příčinou světelné příčiny zachyceny kyslíkem za vzniku peroxických volných radikálů. Ten problém. Způsob překonání blokády kyslíku lze rozdělit na dva typy: chemické a fyzikální metody. Metoda inertního plynu používaná ve fyzikálních metodách k izolaci kyslíku je velmi účinná metoda. Běžně používanými inertními plyny jsou obvykle dusík nebo sorb. Cena dusíku a plynného plynu je relativně vysoká a dalším inertním plynem, který lze použít, je oxid uhličitý. Použití oxidu uhličitého má některé výhody, které jiné plyny nemají: Za prvé, oxid uhličitý lze snadno získat a náklady jsou nízké. Za druhé, protože oxid uhličitý je těžší než vzduch, lze jej v nádobě snadno udržovat, takže dochází k menším ztrátám.