Problemy związane z CICS związane z niedrożnością tlenową utwardzania kleju UV

Teraz, gdy robimy testy kleju dla klientów, napotkamy zastosowanie urządzeń UVLED do naświetlania i solidnego, a dotykanie powierzchni kleju rękami będzie trochę lepkie. Wewnątrz kleju tnącego i utwardzającego widzimy, że klej jest całkowicie zestalony po wystrzeleniu go światłem UVLED. Dlaczego masz taką wyobraźnię? To rozszerzyło ważny problem w branży utwardzania UVLED. Klej UV to problem odporności na tlen podczas utwardzania urządzeniem UVLED. Zamknięcie tlenowe jest częstym problemem w reakcji utwardzania optycznego. W reakcji optycznej UVLED, wolne rodniki generowane przez pęknięte światło powodujące światło są wychwytywane przez tlen, tworząc wolne rodniki nadtlenkowe. Problem. Metodę przezwyciężenia blokady tlenowej można podzielić na dwa typy: metody chemiczne i fizyczne. Metoda gazu obojętnego stosowana w fizycznych metodach izolowania tlenu jest bardzo skuteczną metodą. Powszechnie stosowanymi gazami obojętnymi są zwykle azot lub sorbent. Koszt azotu i gazu gazowego jest stosunkowo wysoki, a innym gazem obojętnym, który można zastosować, jest dwutlenek węgla. Stosowanie dwutlenku węgla ma pewne zalety, których nie mają inne gazy: Po pierwsze, dwutlenek węgla jest łatwy do uzyskania, a jego koszt jest niski. Po drugie, ponieważ dwutlenek węgla jest cięższy od powietrza, łatwo go utrzymać w pojemniku, dzięki czemu straty będą mniejsze.