[Global Sticky Hands] To niewidzialny czynnik wpływający na efekt napromieniowania UVLED

Tianhui spotkał się z wieloma klientami podczas konsultacji. Po naświetleniu źródła światła ultrafioletowego UVLED powierzchnia kleju nadal będzie lepka. Po poddaniu kleju testom niszczącym okazuje się, że klej jest całkowicie zestalony, a cały klej to cały klej. Stał się stanem stałym. Wiele osób może zrozumieć, że natężenie promieniowania źródeł światła UVLED jest niewystarczające na podstawie własnego zrozumienia, a sprzedawca kleju może nie wystarczyć na podstawie fachowej wiedzy. Czy to naprawdę prawda? Właściwie nie tak. Tutaj musimy poznać blokowanie tlenu! Zamknięcie tlenu jest również nazywane hamującym hamowaniem. Na prawie wszystkie reakcje promieniowania i krzepnięcia materiałów utwardzanych promieniowaniem ma wpływ tlen znajdujący się w powietrzu. Ponieważ stężenie tlenu w warstwie powierzchniowej jest największe, aglomeracja tlenu często powoduje zestalenie dolnej warstwy, a powierzchnia nie zestala się. Test udowadnia, że ​​dla lakieru energia zużyta na utwardzanie powłoki o grubości 1um w powietrzu jest większa niż dla powłoki o grubości 1UM w powłoce o grubości 1um (5um od powierzchni). Efekt targowania się tlenem nie tylko wydłuża czas utwardzania promieniowaniem, ale także może uszkodzić ważne parametry twardości, odporności na ścieranie i uszkodzenia warstwy wierzchniej, takie jak twardość, odporność na ścieranie i urazy. Podstawowym stanem substancji ogólnych (to znaczy stanem stabilnym) jest jednoliniowy, ale z wyjątkiem cząsteczek tlenu, jego stan stabilny to stan trójliniowy i istnieją dwie nieosiągalne pary elektroniki w tym samym kierunku wirowania . Dlatego można uznać, że cząsteczki tlenu są podwójnymi wolnymi rodnikami. Chociaż sam tlen jest stosunkowo stabilny i nie może bezpośrednio powodować aglomeracji akrylu w ogólnej temperaturze, będzie on walczył z reakcją agregacji wolnych rodników, aby pochłaniać wolne rodniki, tworząc w ten sposób aglomerację blokującą tlen. Istnieje wiele metod spowalniania metod blokowania tlenu. Metoda fizyczna polega na usuwaniu tlenu z układu na różne sposoby, tak aby nie miał on kontaktu z powłokami i filmem powłokowym. Na przykład na stanowisku, które jest wystawione na działanie UVLED, przedmuchaj obszar kleju azotem, zastąp cząsteczki tlenu na powierzchni kleju i ogranicz gromadzenie się blokującego tlen tak bardzo, jak to możliwe. Metoda chemiczna może dodać do systemu środki czyszczące tlen, takie jak unusamine, sulfurlol i związki piruminowe. Związki te mogą być używane jako żywy organizm dostarczający wodór do reakcji z nadtlenkiem. Lub użyj niskich polimerów i aktywnych rozcieńczalników o niskiej wrażliwości na tlen, takich jak aktywne rozcieńczalniki i niskie polimery zawierające alpinel, propelinel, wiązania eterowe. Znakomici producenci klejów, produkując klej, będą brać pod uwagę problem blokowania tlenu, aby dodać do formuły kleju odpowiednie polimery i aktywne rozcieńczalniki. Sukces technologii utwardzania kleju w ultrafiolecie zależy z jednej strony od źródła światła UVLED, az drugiej strony od formuły kleju w ultrafiolecie. Po połączeniu tych dwóch rozwiązań najbardziej opłacalnym rozwiązaniem jest zastosowanie planu w przemyśle w branży.