[УВ ЛЕД Дри] Улога УВ ЛЕД на површини је сува

Неки материјали који се користе у области индустрије или високе технологије имају веома високе перформансе и такође су веома добри за животну средину, али наставак и штампање ових материјала су генерално веома лоши. ТИАНХУИУВЛЕД машина за оптичко очвршћавање користи чист и ефикасан УВЛЕД извор светлости. Након обраде ових материјала, може добити и своју чисту површину и моћну површину. Основна реакција модификације је реакција оксидације изазвана УВЛЕД светлом. Након што УВЛЕД осветли површину чврсте материје, загађивачи на површини се оксидују, а затим се разлажу на испарљиве супстанце као што су ЦО2 и Х2О. А површина формира повољне површине, као што су ОХ, ЦОО, Цо, ЦООХ и други хидрофилни атоми. Напредак технологије извора светлости ТианхуиуВлед гарантује УВ/О3 технологију модификације површине која даје пуну игру својој изванредној супериорности. УВ/О3 Технологија модификације површине може постићи изузетно високу чистоћу и континуитет површине, што се све више користи у третману чврстих површина. Карактеристике: Третман у атмосфери, једноставан, згодан, еколошки прихватљив, нема секундарног загађења, нема потребе за загревањем, лековитим раствором итд. Чистоћа је изузетно висока, испод једног молекуларног слоја, може се добити континуирани процес обраде метода које је тешко замислити. Домаћа јединствена ултра-велика снага краткоталасних извора ултраљубичастог светла, само у кратком времену (друга јединица), са јаким могућностима обраде, од истраживања и употребе масовне производње. Ефикасно зрачење већине производа за обликовање пластике и широка примена. Може избећи велику количину медицинског раствора, топлотне енергије итд., А оперативни трошкови су ниски. На пример, површинско зрачење инжењерске пластике ПБТ (политинил диит дилат), резултати показују да се комбинација Ц-Х на површини након озрачивања смањује, -ЦОО-повећава, а Ц = о производи, што указује да је површина модификована на модификација површине. На овај начин се побољшава хидрофилност поларнијих атомских група кисеоника и кисеоника. Након површинске обраде, веома је ефикасан за побољшање површине материјала.