[UV LED Dry] התפקיד של UV LED על פני השטח יבש

חלק מהחומרים המשמשים בתחומי התעשייה או ההיי-טק הם בעלי ביצועים גבוהים מאוד והם גם טובים מאוד לאיכות הסביבה, אך ההמשך וההדפסה של חומרים אלו בדרך כלל גרועים מאוד. מכונת ריפוי אופטית TIANHUIUVLED משתמשת במקור אור UVLED נקי ויעיל. לאחר עיבוד חומרים אלה, זה יכול לקבל ואת פני השטח הנקי שלה משטח חזק. התגובה הבסיסית של שינוי היא תגובת החמצון הנגרמת על ידי אור UVLED. לאחר UVLED מאיר את פני השטח של המוצק, המזהמים שעל פני השטח מתחמצנים, ולאחר מכן מתפרקים לחומרים נדיפים כמו CO2 ו- H2O. והמשטח יוצר משטחים נוחים, כגון OH, COO, Co, COOH ואטומים הידרופיליים אחרים. ההתקדמות של טכנולוגיית מקור האור TianhuiuVled מבטיחה את טכנולוגיית שינוי פני השטח UV/O3 לתת משחק מלא לעליונות יוצאת הדופן שלה. טכנולוגיית שינוי פני השטח UV/O3 יכולה להשיג ניקיון גבוה במיוחד והמשך פני השטח, אשר נמצא בשימוש נרחב יותר ויותר בטיפול משטח מוצק. מאפיינים: טיפול באווירה, פשוט, נוח, ידידותי לסביבה, ללא זיהום משני, ללא צורך בחימום, תמיסה רפואית וכו'. הניקיון גבוה במיוחד, מתחת לשכבה המולקולרית הבודדת ניתן לקבל תהליך רציף של שיטות עיבוד שקשה לדמיין. ביתי ייחודי אולטרה-גבוה-הספק קצר-גל של מקורות אור אולטרה סגול, רק בזמן קצר (יחידה שנייה), תוך הפעלת יכולות עיבוד חזקות, ממחקר ושימוש בייצור המוני. הקרנה יעילה של רוב מוצרי הפלסטיק ליצירת פלסטיק וישימות רחבה. זה יכול להימנע מכמות גדולה של תמיסה רפואית, אנרגיה תרמית וכו', ועלות התפעול נמוכה. לדוגמה, הקרנת פני השטח של פלסטיק הנדסי PBT (polytinyl diite dilate), התוצאות מראות שהשילוב של C-H על פני השטח לאחר הקרנה פוחת, -COO-עלייה, ו-C = o מייצר, מה שמצביע על כך שהמשטח משתנה על פני השטח. שינוי פני השטח. בדרך זו משתפרת ההידרופיליות של קבוצות החמצן והחמצן הקוטביות יותר. לאחר טיפול פני השטח הוא יעיל מאוד לשיפור פני החומר.