[UV LED Dry] Uloga UV LED na površini je suva

Neki materijali koji se koriste u oblastima industrije ili visoke tehnologije imaju vrlo visoke performanse i takođe su veoma dobri za životnu sredinu, ali nastavak i štampa ovih materijala su generalno veoma loši. TIANHUIUVLED mašina za optičko sušenje koristi čist i efikasan UVLED izvor svetlosti. Nakon obrade ovih materijala, može dobiti i svoju čistu površinu i moćnu površinu. Osnovna reakcija modifikacije je reakcija oksidacije uzrokovana UVLED svjetlom. Nakon što UVLED osvijetli površinu čvrste tvari, zagađivači na površini se oksidiraju, a zatim se razlažu do isparljivih tvari kao što su CO2 i H2O. I površina formira povoljne površine, kao što su OH, COO, Co, COOH i drugi hidrofilni atomi. Napredak tehnologije izvora svjetlosti TianhuiuVled jamči UV/O3 tehnologiju modifikacije površine koja daje punu igru ​​svojoj izvanrednoj superiornosti. UV/O3 Tehnologija modifikacije površine može postići izuzetno visoku čistoću i kontinuitet površine, što se sve više koristi u obradi čvrstih površina. Karakteristike: Tretman u atmosferi, jednostavan, praktičan, ekološki prihvatljiv, nema sekundarnog zagađenja, nema potrebe za zagrijavanjem, ljekovitim rastvorom itd. Čistoća je izuzetno visoka, ispod jednog molekularnog sloja može se dobiti kontinuirani proces obrade metoda koje je teško zamisliti. Jedinstveni domaći izvori ultraljubičastog svjetla ultra velike snage kratkog talasa, samo u kratkom vremenu (druga jedinica), pokazuju jake mogućnosti obrade, od istraživanja i upotrebe u masovnoj proizvodnji. Učinkovito zračenje većine proizvoda za oblikovanje plastike i široka primjena. Može izbjeći veliku količinu ljekovitog rastvora, toplotne energije itd., a operativni troškovi su niski. Na primjer, površinsko zračenje inženjerske plastike PBT (politinil diit dilat), rezultati pokazuju da se kombinacija C-H na površini nakon ozračivanja smanjuje, -COO-povećava, a C = o proizvodi, što ukazuje da je površina modificirana na modifikacija površine. Na ovaj način se poboljšava hidrofilnost polarnijih atomskih grupa kisika i kisika. Nakon površinske obrade vrlo je efikasan za poboljšanje površine materijala.