[UV LED Dry] Vloga UV LED na površini je suha

Nekateri materiali, ki se uporabljajo na področju industrije ali visoke tehnologije, so zelo zmogljivi in ​​so tudi zelo dobri za okolje, vendar sta nadaljevanje in tiskanje teh materialov na splošno zelo slaba. Optični strjevalni stroj TIANHUIUVLED uporablja čist in učinkovit vir svetlobe UVLED. Po obdelavi teh materialov lahko dobi čisto površino in močno površino. Osnovna reakcija modifikacije je reakcija oksidacije, ki jo povzroča UVLED svetloba. Ko UVLED osvetli površino trdne snovi, se onesnaževala na površini oksidirajo in nato razgradijo na hlapne snovi, kot sta CO2 in H2O. In površina tvori ugodne površine, kot so OH, COO, Co, COOH in drugi hidrofilni atomi. Napredek tehnologije svetlobnega vira TianhuiuVled zagotavlja tehnologijo modifikacije površine UV/O3, ki omogoča popolno igro njene izjemne superiornosti. Tehnologija UV/O3 površinske modifikacije lahko doseže izjemno visoko čistost in površinsko nadaljevanje, kar se vse pogosteje uporablja pri obdelavi trdnih površin. Značilnosti: Zdravljenje v atmosferi, preprosto, priročno, okolju prijazno, brez sekundarnega onesnaženja, ni potrebe po segrevanju, medicinska raztopina itd. Čistost je izredno visoka, pod eno molekularno plastjo je mogoče doseči neprekinjen proces predelovalnih metod, ki si jih je težko predstavljati. Domača edinstvena ultra-močna kratka valovna dolžina virov ultravijolične svetlobe, samo v kratkem času (druga enota), ki izvaja močne zmogljivosti obdelave, iz raziskav in uporabe masovne proizvodnje. Učinkovito obsevanje večine izdelkov za oblikovanje plastike in široka uporabnost. Lahko se izogne ​​veliki količini medicinske raztopine, toplotne energije itd., Operativni stroški pa so nizki. Na primer, pri površinskem obsevanju inženirske plastike PBT (politinil diit dilat), rezultati kažejo, da se kombinacija C-H na površini po obsevanju zmanjša, -COO poveča in nastane C = o, kar kaže, da je površina na površini spremenjena. modifikacija površine. Na ta način se izboljša hidrofilnost bolj polarnega kisika in atomskih skupin kisika. Po površinski obdelavi je zelo učinkovit za izboljšanje površine materiala.