[UV LED Dry] Uloga UV LED-a na površini je suha

Neki materijali koji se koriste u područjima industrije ili visoke tehnologije imaju vrlo visoke performanse i također su vrlo dobri za okoliš, ali nastavak i ispis tih materijala općenito su vrlo loši. TIANHUIUVLED optički stroj za stvrdnjavanje koristi čist i učinkovit UVLED izvor svjetla. Nakon obrade ovih materijala, može dobiti svoju čistu površinu i moćnu površinu. Osnovna reakcija modifikacije je reakcija oksidacije uzrokovana UVLED svjetlom. Nakon što UVLED osvijetli površinu krutine, zagađivači na površini se oksidiraju, a zatim razgrađuju na hlapljive tvari kao što su CO2 i H2O. A površina tvori povoljne površine, kao što su OH, COO, Co, COOH i drugi hidrofilni atomi. Napredak TianhuiuVled tehnologije izvora svjetla jamči UV/O3 tehnologiju modifikacije površine kako bi se u potpunosti pokazala njegova izvanredna superiornost. UV/O3 Tehnologija modifikacije površine može postići izuzetno visoku čistoću i nastavak površine, što se sve više koristi u obradi čvrstih površina. Značajke: Tretman u atmosferi, jednostavan, praktičan, ekološki prihvatljiv, bez sekundarnog zagađenja, bez potrebe za zagrijavanjem, ljekovita otopina itd. Čistoća je izuzetno visoka, ispod jednog molekularnog sloja može se postići kontinuirani proces obrade metoda koje je teško zamisliti. Domaći jedinstveni izvori ultraljubičastog svjetla kratke valne duljine ultra-visoke snage, samo u kratkom vremenu (druga jedinica), s jakim mogućnostima obrade, iz istraživanja i upotrebe masovne proizvodnje. Učinkovito zračenje većine proizvoda za plastično oblikovanje i široka primjenjivost. Može izbjeći veliku količinu medicinske otopine, toplinske energije itd., a operativni troškovi su niski. Na primjer, površinsko zračenje inženjerske plastike PBT (politinil diit dilat), rezultati pokazuju da se kombinacija C-H na površini nakon zračenja smanjuje, -COO povećava, a proizvodi C = o, što ukazuje da je površina modificirana na modifikacija površine. Na taj se način poboljšava hidrofilnost polarnijeg kisika i atomskih skupina kisika. Nakon površinske obrade vrlo je učinkovit za poboljšanje površine materijala.