[UV LED Dry] UV šviesos diodo vaidmuo ant paviršiaus yra sausas

Kai kurios medžiagos, naudojamos pramonės ar aukštųjų technologijų srityse, yra labai geros eksploatacinės savybės ir taip pat yra labai naudingos aplinkai, tačiau šių medžiagų tęstinumas ir spausdinimas paprastai yra labai prastas. TIANHUIUVLED optinėje kietėjimo mašinoje naudojamas švarus ir efektyvus UVLED šviesos šaltinis. Apdorojus šias medžiagas, jis gali gauti švarų paviršių ir galingą paviršių. Pagrindinė modifikavimo reakcija yra oksidacijos reakcija, kurią sukelia UVLED šviesa. Kai UVLED apšviečia kietosios medžiagos paviršių, paviršiuje esantys teršalai oksiduojasi ir suyra iki lakiųjų medžiagų, tokių kaip CO2 ir H2O. O paviršius sudaro palankius paviršius, tokius kaip OH, COO, Co, COOH ir kiti hidrofiliniai atomai. „TianhuiuVled“ šviesos šaltinio technologijos pažanga garantuoja UV/O3 paviršiaus modifikavimo technologiją, kuri suteiks visišką pranašumą. UV/O3 paviršiaus modifikavimo technologija gali išgauti itin aukštą švarumą ir paviršiaus tęstinumą, kas vis plačiau taikoma kieto paviršiaus apdorojimui. Savybės: Gydymas atmosferoje, paprastas, patogus, nekenksmingas aplinkai, nėra antrinės taršos, nereikia šildyti, medicininis tirpalas ir kt. Švara yra itin aukšta, žemiau vieno molekulinio sluoksnio galima gauti nenutrūkstamą sunkiai įsivaizduojamų apdorojimo būdų procesą. Buitiniai unikalūs itin didelės galios trumpųjų bangų ultravioletinės šviesos šaltiniai, tik per trumpą laiką (antrasis blokas), pasižymintys stipriomis apdorojimo galimybėmis, iš tyrimų ir masinės gamybos. Efektyvus daugumos plastiko formavimo gaminių švitinimas ir platus pritaikymas. Taip galima išvengti didelio vaistinio tirpalo, šiluminės energijos ir kt. kiekio, o eksploatacinės išlaidos yra mažos. Pavyzdžiui, apšvitinant inžinerinio plastiko PBT (politinildiito dilato) paviršių, rezultatai rodo, kad C-H derinys paviršiuje po švitinimo sumažėja, -COO padidėjimas ir susidaro C = o, o tai rodo, kad paviršius yra pakeistas. paviršiaus modifikavimas. Tokiu būdu pagerinamas poliariškesnių deguonies ir deguonies atominių grupių hidrofiliškumas. Po paviršiaus apdorojimo jis labai efektyviai pagerina medžiagos paviršių.